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TÓPICOS EM CARACTERIZAÇÃO DE MATERIAIS
José Roberto R. Bortoleto
Campus Experimental de SorocabaGrupo de Plasma e Materiais
http://www.sorocaba.unesp.br/professor/jrborto/
Histórico
1993 -1997: Licenciatura em Física pela UNESP (Campus de Guaratinguetá)1998-2000: Mestrado em Física pelo IFGW / UNICAMPEstudo da dinâmica de crescimento de filmes de InPhomoepitaxiais:análise das características fractais2000-2005: Doutor em Ciências pelo IFGW / UNICAMPCrescimento e caracterização estrutural de nanoestruturassemicondutoras baseadas na liga InP2004: Professor Assistente no Campus Experimental de SorocabaFísica Geral, Eletromagnestismo, Fenômenos de Transporte, Matemática Aplicada
ColaboradoresCampus Experimental de Sorocaba
Prof. Dr. Nilson C. da Cruz
Profa. Dra. Elidiane C. Rangel
Prof. Dr. Steven Frederick Durrant
Prof. Dr. Rogério Pinto Mota
IFGW-UNICAMPProfa. Dra. Mônica A. Cotta
Prof. Dr. Fernando Iikawa
Prof. Dr. Lisandro Pavie Cardoso
Linhas de Pesquisa
Crescimento e Caracterização de NanoestruturasSemicondutoras
Caracterização de Superfícies e Filmes Finos
Microscopia por Ponta de Prova
Tratamento de Superfícies a Plasma
Nanoestruturas Semicondutoras
Óxidos Transparentes e Condutivos
Polímeros Transparentes e Condutivos
Crescimento de Filmes Finos
AFM
Topografia
Caracterização Elétrica
Domínios Magnéticos
Especificidade Química e Biológica
Resolução Nanométrica
MET
AFM
MET
Aplicação: Quantum dots
Rede de Quantum dotsSemicondutores do Grupo III-V
CBE
Rede espacial quadrada
Empilhamento Vertical
InAsGaAsInPInGaPGaAs
1µm GaAs(001)
IFGW-UNICAMP
Filme Polimérico ConformalPECVD
Monomero C2H2
Substrato com padrão ondulado
Filme polimérico conformal
2µm
0
20
40
nm
2µm
0
20
40
nm
1.5 min15 min
FEG-UNESP
PVC tratado a Plasma
Imersão a Plasma
Gás Argônio
Substrato de PVC Comercial
Modificação Estrutural e Molhabilidade
Campus Experimental de Sorocaba
5µm
Plasma
LíquidoT<100 °C
Gás T>100 °C
SólidoT~0°C
p=1atm
Átomos ionizados e elétrons livres
Plasma
E~2.81 10-20 J(0.176 eV)
E~1.08 10-19 J(0.677 eV) E~10 eV
EnergiaE=3/2 kBTQ=mc∆TkB=1.38 10-23 J/KQ=mLT em kelvin
Plasma na Natureza
Universo Universo ≈≈ 99% Plasma99% Plasma
Plasmas Tecnológicos
Alterações químicas e estruturais Revestimentos
H2 → H + H (4.11 eV)
CH4 → CH3 + H (4.15 eV)H → H+ + e- (13.6 eV)
N → N+ + e- (13.2 eV)
Aplicações Iluminação Tratamento de
SuperfíciesDeposição de Filmes Finos
Exemplos LaPTecnm
300
200
100
0
a-CHx/Aço a-CHx/SiPVC
TiO2
LaPTec Reatores
LaPTec Caracterização