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Anais do 12O Encontro de Iniciação Científica e Pós-Graduação do ITA – XII ENCITA / 2006
Instituto Tecnológico de Aeronáutica, São José dos Campos, SP, Brasil, Outubro, 23 a 26, 2006
DEPOSIÇÃO DE FILMES DE CARBONO AMORFO SOB EFEITO DE CAMPO MAGNÉTICO INTENSO
André Carlos Fraile Júnior Instituto Tecnológico de Aeronáutica — Praça Marechal Eduardo Gomes, 50 – Vila das Acácias
CEP 12228-900 — São José dos Campos – SP – Brasil Bolsista PIBIC-CNPq [email protected]
Marcos Massi Instituto Tecnológico de Aeronáutica — Praça Marechal Eduardo Gomes, 50 – Vila das Acácias
CEP 12228-900 — São José dos Campos – SP – Brasil [email protected] Resumo. Neste trabalho filmes finos de carbono tipo diamante foram depositados sobre substratos de silício, com o auxílio de
descargas elétricas luminescentes de argônio operando em diferentes condições experimentais. Um dos eletrodos era
confeccionado em grafite, sendo portanto a fonte de grafite necessária para produção dos filmes. O reator foi instalado entre os
pólos de um eletroímã, capaz de gerar um campo magnético com magnitude de até 0,35 T. A caracterização das amostras por
perfilometria mostrou que o campo magnético é capaz de, em condições especiais, aproximadamente dobrar a taxa de deposição.
Por meio de espectroscopia Raman, verificou-se que as características estruturais dos filmes são afetadas pela intensidade do
campo magnético aplicado.
Palavras chave: deposição, DLC, carbono amorfo, campo magnético, plasma.
1. Introdução
Além das formas alotrópicas — diferenciadas pelas propriedades físico-químicas — em que se encontra no meio ambiente, o carbono é utilizado como constituinte de materiais produzidos tecnologicamente que se utilizam, por exemplo, em aplicações eletrônicas, médicas e mecânicas; em qualquer um dos casos, recentemente têm recebido destaque no meio científico estudos de aplicações de filmes finos. Os primeiros datam de 1971, quando Aisenberg e Chabot, por meio de técnicas de deposição por feixe de íons, descobriram que suas amostras apresentavam propriedades semelhantes às do diamante, como capacidade de riscar vidro e alto nível de transparência óptica [1]. O trabalho por eles realizado já previa que esse material, denominado carbono tipo diamante (diamond-like carbon), freqüentemente chamado DLC, apresentaria uma série de aplicações tecnológicas.
A tentativa de obtenção de um substituinte de baixo custo ao diamante mobilizou, a partir dessa época, estudos relativos a processos de fabricação desse tipo de material, bem como de sua otimização. É possível, por exemplo, por meio de técnicas de magnetron sputtering — que consistem, de maneira simplificada, no confinamento de gás ionizado entre eletrodos de placas planas e paralelas através da aplicação de um campo magnético perpendicular ao campo elétrico relativo à tensão da descarga elétrica — obter depósitos de filmes de DLC a partir de uma fonte de carbono.
A análise dos principais parâmetros ligados à deposição por descarga de corrente contínua com aplicação de um campo magnético praticamente uniforme e com eletrodos em forma de disco consiste na meta deste trabalho. Essa configuração, contudo, não se limita àquela associada a magnetron sputerring, pois o campo elétrico relativo à descarga elétrica não é necessariamente direcionado perpendicularmente ao campo magnético. As amostras assim obtidas foram posteriormente submetidas a técnicas de caracterização como espectroscopia Raman e perfilometria. 2. Métodos de caracterização dos filmes
A caracterização dos filmes produzidos consiste na determinação de suas espessuras e na análise estrutural dos
mesmos. Para isso, foram utilizados como métodos de caracterização a perfilometria e a espectroscopia Raman. No caso de perfilometria, tem-se um equipamento que analisa a morfologia do material por meio de uma ponta móvel que é posta em varredura numa determinada direção da superfície da amostra. A ponta realiza uma força vertical para baixo de forma que é capaz de coletar deslocamentos verticais referentes a alterações morfológicas do material (isto é, variações da altura de sua superfície). A espectroscopia Raman é apresentada a seguir com um maior detalhamento.
2.1. Espectroscopia Raman A espectroscopia Raman é uma técnica de caracterização vantajosa porque não confere nenhum tipo de dano ao
filme de carbono [2]. Além de não envolver nenhum tipo de preparação da amostra, é capaz de fornecer uma análise precisa sobre suas características estruturais a partir da comparação de seu espectro com o de modelos conhecidos.
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,
Deve-se salientar que tal técnica não fornece a composição exata do filme, mas fornece informações indiretas a respeito de suas características, como a proporção entre as ligações sp2 e sp3 [3].
O efeito Raman tem por princípio o espalhamento da luz. Considerando, inicialmente, o caráter corpuscular da luz, faz-se incidir, sobre o material a ser analisado, um fóton com freqüência ν0, que interage com uma molécula do material no estado vibracional fundamental, levando-a a um estado energético intermediário (cuja energia de transição é associada à freqüência νv), e é espalhado com uma freqüência νf. Se νf = ν0 – νv, o espalhamento é denominado Raman
Stokes. Se νf = ν0 + νv, o espalhamento é denominado Raman anti-Stokes. Se a colisão é elástica, isto é, se o fóton é espalhado com a mesma freqüência, ocorre simplesmente emissão de radiação Rayleigh [4]. Considerando, por sua vez, fisicamente o caráter ondulatório da luz, pode-se afirmar que o campo elétrico da radiação incidente induz um momento de dipolo elétrico na molécula. Este, por sua vez, é posto a oscilar, gerando radiação eletromagnética que conduz aos espectros observados experimentalmente [5]. 2.2. Análise de espectros Raman de filmes DLC
A Fig. 1 apresenta um exemplo de espectro Raman de carbono amorfo.
1000 1200 1400 1600 1800
20
40
60
80
100
120
Banda G
Banda D
Inte
nsid
ade (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Figura 1. Espectro característico de carbono amorfo.
A escala vertical da Fig. 1 mostra que a intensidade de radiação é obtida em unidades arbitrárias. Torna-se inviável,
desse modo, a comparação de gráficos associados a análises distintas levando-se em consideração apenas a intensidade do sinal gerado. O número de onda, disposto na escala horizontal, por sua vez, corresponde à freqüência de vibração atômica medida pelo espectroscópio. Conforme é apresentado pelo ajuste, o espectro é geralmente composto pela sobreposição de duas curvas gaussianas denominadas banda D (“desordem”) e G (“grafite”). Seus centros encontram-se, de maneira aproximada, nos números de onda de 1580 cm-1 e 1350 cm-1 respectivamente [6]. É possível, entretanto, obter sobreposição de três ou mais gaussianas, desde que o filme seja irregular e composto por mais elementos além do carbono.
Estudos mostram que a posição da banda G está ligada ao grau de desordem das ligações sp2, cujo aumento resulta em um deslocamento da banda G para a esquerda (ou seja, a posição do pico G assume números de onda menores). Além disso, como a largura a meia altura da banda G para a grafite é da ordem de 80 cm-1, quanto mais próximo o resultado experimental estiver deste valor, mais grafítico será o filme produzido [5]. Um deslocamento do pico da banda D para a esquerda, por sua vez, indica um aumento de ligações sp3 na estrutura. Já o acréscimo da razão entre as áreas das bandas D e G indica um aumento do tamanho dos grãos grafíticos do filme [5]. 3. Experimental
As deposições dos filmes de carbono amorfo foram realizadas no Laboratório de Plasmas e Processos do ITA (Instituto Tecnológico de Aeronáutica). A caracterização dos filmes produzidos foi realizada com equipamentos pertencentes ao LAS (Laboratório Associado de Sensores e Materiais) do INPE (Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais).
Inicialmente, realizou-se a montagem do experimento, que consiste basicamente em um sistema elétrico, uma câmara de processos, um sistema de vácuo e um eletroímã, conforme o esquema mostrado na Fig. 2.
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P1, P2: medidores de pressão
A: multímetro operando na função de amperímetro. V: multímetro operando na função de voltímetro.
Figura 2. Diagrama dos principais componentes do experimento.
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Foram realizadas deposições de filme de carbono sob substratos de silício com resistividade 1 – 10 Ω.cm, espessura de 425 µm a 475µm e orientação cristalográfica 100. Esses substratos foram posicionados em frente aos eletrodos. Um dos eletrodos, o catodo, consiste em um arranjo em forma de disco confeccionado em grafite e colocado no interior de um anodo de alumínio. Paralelamente à seção desse arranjo, de acordo com a Fig. 3, dispõe-se um suporte para o substrato, e aproximadamente na direção perpendicular à mesma faz-se incidir um campo magnético proveniente do eletroímã e com sentido definido pelas denominações normal ou reverso. A intensidade do campo é regulada pela corrente que circula no eletroímã. O parâmetro adimensional razão de corrente refere-se à relação entre a corrente que circula no equipamento e a máxima corrente disponível. Com relação às condições de descarga elétrica, mantêm-se o substrato e o anodo com potencial nulo no decorrer dos experimentos.
Figura 3. Esquema do posicionamento dos eletrodos e do suporte do substrato no interior da câmara.
O vetor B
apresenta a direção do campo magnético aplicado. 4. Resultados 4.1. Campo magnético no reator
A Fig. 4 apresenta a distribuição do campo magnético nas posições de interesse na câmara de processos. Como as variações de intensidade de campo magnético são reduzidas em comparação com seu módulo e com as incertezas oriundas das medições do gaussímetro empregado, pode-se afirmar que o campo gerado é aproximadamente uniforme. Entretanto, os resultados em análise referentes às deposições não são apresentados em função do campo magnético aplicado, mas sim da razão de corrente no eletroímã.
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,
(a)
0 20 40 60 80 100
0,0
0,5
1,0
1,5
2,0
2,5
3,0
3,5
4,0
4,5
x = 1,5 cm
Ajuste linear: B =P1+ P
2. i
P1 = (7 ± 4).10
-2 kG
P2 = (3,75 ± 0,06).10
-2 kG / 100
Cam
po
Mag
néti
co
(kG
)
Razão de correntes (%)
0 20 40 60 80 100
0,0
0,5
1,0
1,5
2,0
2,5
3,0
3,5
4,0
4,5
Razão de corrente (%)
Cam
po
mag
néti
co
(kG
)
x = 5,0 cm
Ajuste linear: B =P1+ P
2. i
P1 = (6,2 ± 0,9).10
-2 kG
P2 = (3,493 ± 0,015).10
-2 kG / 100
(b)
0 20 40 60 80 100
0,0
0,5
1,0
1,5
2,0
2,5
3,0
3,5
4,0
4,5
5,0
Razão de corrente (%)
Cam
po
mag
néti
co
(kG
)
x = 8,5 cm
Ajuste linear: B =P1+ P2. i
P1 = (7 ± 1).10-2
kG
P2 = (3,666 ± 0,018).10-2
kG / 100
(c)
(d)
Figura 4. Distribuição espacial do campo magnético no interior da câmara de processo. Os resultados expressos em (a), (b) e (c) referem-se às coordenadas na direção x câmara de processos, esquematizada em (d). B indica o módulo do campo magnético e i a corrente, em relação à máxima, que circula no eletroímã.
4.2. Taxa de deposição
A Tab. 1 apresenta as condições dos experimentos e as taxas de deposição correspondentes. Nestes experimentos, a pressão de fundo variou entre 3,2×10-2 mtorr e 1,1 mtorr, o que pode ter promovido diferenças nas características estruturais dos filmes.
Dos resultados mostrados na Tab. 1, pode-se analisar a influência do campo magnético na taxa de deposição para diferentes tempos estabelecidos para o processo. Entretanto, a falta de uniformidade das amostras dificulta a análise dos resultados. Sabe-se, por exemplo, que os filmes 8 a 15 apresentam uma superfície com um gradiente de coloração característico de um espectro que é indicativo de falta de uniformidade da espessura do filme. Assim, os resultados de taxa de deposição obtidos para essas amostras não são totalmente confiáveis porque não correspondem a taxas de deposição uniformes na superfície da amostra. Assim, é possível que as espessuras variem, ao longo da superfície, em relação às medições efetuadas.
As amostras 1 a 7, por sua vez, não apresentam um gradiente de coloração em sua superfície, o que é um indicativo de que as espessuras do filmes devem ser mais uniformes. De fato, como é apresentado na Tab. 1, a influência do campo magnético é mais facilmente observada nas amostras 1 a 7. Nesses casos, o confinamento do plasma devido ao campo magnético é capaz de, em alguns casos, aproximadamente, dobrar a taxa de deposição.
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Tabela 1. Parâmetros gerais ligados às deposições1.
Amostra Vazão (sccm)
Tempo (min)
Razão de corrente (%)
Potência (W)
Taxa de deposição (Å/min)
1 7,6±0,1 30 80 10±1 — 2 27,6±0,1 60 80 5±1 — 3 31,0±0,1 60 80 10±2 2,50±0,25 4 28,7±0,1 90 80 4,9±0,4 5,9±0,6 5 29,0±0,1 90 0 3,7±0,3 — 6 31,0±0,1 60 40 9±2 2,12±0,21 7 31,0±0,1 90 40 8±1 2,90±0,29 8 7,6±0,1 60 60 10,3±0,1 147,3±1,5 9 7,7±0,1 90 60 10,1±0,1 64,2±0,6 10 7,6±0,1 60 20 10,2±0,1 41,3±0,4 11 7,6±0,1 30 80 19,9±0,3 109,0±1,1 12 7,6±0,1 90 20 10,2±0,2 64,4±0,6 13 7,6±0,1 30 20 10,2±0,1 62,0±0,6 14 7,6±0,1 45 40 10,0±0,1 18,22±0,18 15 7,6±0,1 45 80 10,0±0,1 58,9±0,6
1 O valor de pressão de trabalho para as amostras 1 a 7 é de (68±7) mtorr, e para as amostras 8 a 15 é de (290±10) mtorr.
4.3. Espectroscopia Raman
As Fig. 5 e 6 apresentam os principais espectros Raman obtidos. Verifica-se que, entre os números de onda de 900 cm-1 e 1000 cm-1, ocorre um ponto de máximo nos gráficos da Fig. 5. Como esses filmes são mais finos do que aqueles da Fig. 6, esse ponto pode ser relacionado à detecção de silício do substrato.
800 1000 1200 1400 1600 1800
100
200
300
400
500
600
700
800
900 Amostra 3
Inte
nsid
ade (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
800 1000 1200 1400 1600 1800
20
40
60
80
100
120
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 4
800 1000 1200 1400 1600 1800
20
40
60
80
100
Inte
nsid
ade (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 5
800 1000 1200 1400 1600 1800
50
100
150
200
250
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 6
800 1000 1200 1400 1600 180010
20
30
40
50
60
70
80
90
100
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 7
Figura 5. Espectros Raman dos filmes de carbono obtidos para as amostras 3 a 7.
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800 1000 1200 1400 1600 18004000
6000
8000
10000
12000
14000 Amostra 8
Inte
nsid
ade
(u
.a.)
Número de onda (cm-1)
800 1000 1200 1400 1600 1800
6000
8000
10000
12000
14000
16000
18000
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 9
800 1000 1200 1400 1600 18003000
4000
5000
6000
7000
8000
9000
10000
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 10
800 1000 1200 1400 1600 18002000
3000
4000
5000
6000
7000
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 11
800 1000 1200 1400 1600 1800
2000
3000
4000
5000
6000
7000
Inte
nsid
ade
Número de onda (cm-1)
Amostra 12
800 1000 1200 1400 1600 18001000
1500
2000
2500
3000
3500
4000
Inte
nsid
ade
(u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 13
800 1000 1200 1400 1600 18001000
1500
2000
2500
3000
3500
4000
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 15
800 1000 1200 1400 1600 1800
2500
3000
3500
4000
4500
5000
5500
6000
6500
Inte
nsid
ad
e (
u.a
.)
Número de onda (cm-1)
Amostra 15
Figura 6. Espectros Raman dos filmes de carbono obtidos para as amostras 8 a 15
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,
A partir dos espectros mostrados nas Fig. 5 foram obtidos os valores das posições e largura à meia altura das bandas D e G, bem como da razão ID/IG das amostras em estudo. As Fig. 7 e 8 mostram esses resultados, em função do tempo de deposição e da razão de correntes aplicada ao eletroímã, respectivamente. Com isso, torna-se mais clara a análise estrutural dos filmes.
30 40 50 60 70 80 90
1360
1400
1440
1480
1520
Nú
mero
de o
nd
a -
pic
o D
(cm
-1)
Tempo de deposição (min)
30 40 50 60 70 80 90
200
300
400
500
600
Larg
ura
da b
an
da D
(cm
-1)
Tempo de deposição (min)
30 40 50 60 70 80 90
1560
1600
1640
1680
1720
Nú
mero
de o
nd
a -
pic
o G
(cm
-1)
Tempo de deposição (min)
30 40 50 60 70 80 90100
150
200
250
300L
arg
ura
da b
an
da G
(cm
-1)
Tempo de deposição (min)
30 40 50 60 70 80 90
0
2
4
6
8
10
I D/I
G
Tempo de deposição (min)
Figura 7. Características das bandas D e G para variações de tempo de deposição.
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,
20 30 40 50 60 70 80
1360
1400
1440
1480
1520
Nú
mero
de o
nd
a -
pic
o D
(cm
-1)
Razão de corrente (%)
20 30 40 50 60 70 80
200
300
400
500
600
Razão de corrente (%)
Larg
ura
da b
an
da D
(cm
-1)
20 30 40 50 60 70 80
1560
1600
1640
1680
1720
Razão de corrente (%)
Nú
mero
de o
nd
a -
pic
o G
(cm
-1)
20 30 40 50 60 70 80
120
160
200
240
280
320
Razão de corrente (%)
Larg
ura
da b
an
da G
(cm
-1)
20 30 40 50 60 70 800
2
4
6
8
10
Razão de corrente (%)
I D/I
G
Figura 8. Características das bandas D e G devido a variações de campo magnético.
De acordo com a análise anterior, observa-se que a falta de uniformidade das condições de deposição das amostras resulta em gráficos com grandes variações nas propriedades em estudo. Entretanto, é possível verificar que, de um modo geral, o aumento do tempo de deposição ocasiona um deslocamento das bandas D e G para a esquerda, o que é um indicativo de que ocorre um aumento da quantidade de ligações sp3 e do grau de desordem das ligações sp2, de forma que as características de DLC do filme tornam-se cada vez mais acentuadas. Também a diminuição da razão ID/IG, que é conseqüência da diminuição dos microcristais de grafite da estrutura do filme, indica um aumento das características de carbono tipo diamante. A largura da banda G apresentou oscilações para os valores considerados, mas, de um modo geral, mantém-se distante daquele referente ao grafite (80cm-1). A Fig. 7 permite verificar, ainda, que, de um modo geral, o acréscimo da corrente elétrica do eletroímã propicia um aumento das características de carbono tipo diamante dos filmes estudados.
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Os resultados permitem confirmar a observação de que, aproximadamente, as características de carbono tipo diamante dos filmes tornam-se mais visíveis com o aumento da corrente no eletroímã: de um modo geral, novamente as bandas D e G deslocam-se para a esquerda e a largura da banda G mantém-se distante daquela do grafite. A diminuição da razão entre as áreas das gaussianas também é um indicativo do aumento das características de DLC. Os possíveis erros associados aos resultados podem ser confiados à não-uniformidade dos filmes.
5. Conclusões
Com os resultados obtidos durante a execução desse trabalho pode-se concluir que:
i) As amostras 1 a 7 apresentaram taxas de deposição significativamente menores que as determinadas para o conjunto de amostras 8 a 15, que é ocasionado pelo aumento da pressão de trabalho durante o processo de deposição.
ii) As espessuras das amostras 8 a 15 mostraram-se bastante variáveis ao longo da superfície dos filmes, o que pode ser relacionado ao gradiente de coloração dessas amostras. Essa característica, ausente nos primeiros filmes analisados (1 a 7), está ligada à pressão de trabalho no mínimo quatro vezes superior à das amostras anteriores. Desse modo, as medições de espessura tornam-se pouco confiáveis. Entretanto, apesar da falta de uniformidade das condições de deposição e dos resultados analisados, ainda é possível afirmar que, para a configuração experimental proposta, a utilização de campo magnético mostrou-se capaz de aumentar a taxa de deposição de filmes de DLC.
iii) O acréscimo da corrente elétrica do eletroímã propicia um aumento das características de carbono tipo diamante dos filmes estudados, conforme indica a análise dos espectros Raman.
6. Agradecimentos
Ao CNPq (Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico), pelo apoio ao desenvolvimento
deste projeto; Ao INPE (Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais), pelo fornecimento de laboratório para a realização das
caracterizações dos filmes; Aos alunos de pós-graduação Rodrigo Sávio Pessoa, Maurício Roque de Britto, ao Dr. Argemiro Soares da
Silva Sobrinho e ao restante da equipe do Laboratório de Plasmas do ITA, pelas dicas e ajuda na montagem do experimento;
Ao técnico Garufe, pela construção das peças necessárias ao reator. 7. Referências 1. S. Aisenberg, R. Chabot, Ion-beam deposition of thin films of diamondlike carbon, Journal of Applied Physics, 42
(7), pp. 2953-2958,(1971). 2. M. A. Tamor, W. C. Vassell, Raman "fingerprinting" of amorphous carbon films, J. Appl. Phys. 76 (6), pp.3823-
3829, (1994). 3. N. Paik, Raman and XPS studies of DLC films prepared by a magnetron sputter-type negative ion source, Surface &
Coatings Technology 200, pp. 2170-2174, (2005). 4. O. Sala et al, Espectroscopia Raman: princípios e aplicações, Oficinas Gráficas da Fundação Valeparaibana de
Ensino, São José dos Campos, pp. 1-8, (1984). 5. M. Massi, Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas a plasma, USP, São
Paulo, (1999). 6. J. Robertson, Diamond-like amorphous carbon, Materials Science and Engineering, 37, pp. 129-281, (2002).