Laboratório de Filmes Finos*

1. Microscópio de Força Atômica e Tunelamento e Família (Força Elétrica,

Kelvin, Força Magnética, Força lateral, Nanolitografia, Nanoendentação,

Eletroquímico) (Nanoscope IIIa Digital Instruments)

2. Microscópio Eletrônico de Varredura (Jeol 6460LV), Microanálise EDS

(Thermo Noran) e Nanolitografia por Feixe de Elétrons (NPGS)

3. Microscópio Óptico BX51 (Olympus)

4. Sistema de Medição de ângulo de Contato, Tensão de Superfície e

Interfacial e de Energia Livre de Superfície (KSV CAM200)

5. Elipsômetro (modelo Rudolph)

6. MePIIID - Metal Plasma Immersion Ion Implantation & Deposition (Home-

made)

7. CVD - Chemical Vapour Deposition (Home-made)Nanotubos de carbono depositados

por CVDFilme de diamante microestruturado

depositado por CVD

CVD CVD –– Chemical Vapour DepositionChemical Vapour Deposition

DeposiDeposiçção e implantaão e implantaçção iônica a plasmaão iônica a plasma

http://fap.if.usp.br/~lff

Deposição de metais (Pt, Au, Pd, Cu, Al, etc), Óxidos (ex. alumina), Nitretos (ex. nitreto de silício), Carbetos (ex. carbeto de silício), DLC

(Diamond-like) e Ligas

Principais FacilidadesPrincipais Facilidades

Microscopia de ForMicroscopia de Forçça Atômica (AFM), a Atômica (AFM), Tunelamento (STM) e FamTunelamento (STM) e Famíílialia

Sonda de Microscopia de Força Atômica

Nanoscope IIIa (Digital Instruments)

Imagem de morfologia criada em PMMA por AFM de contato

Microscopia Eletrônica de VarreduraMicroscopia Eletrônica de Varredura

Microscópio Eletrônico de VarreduraJeol 6460LV

Superfície da Folha de Lótus (baixo vácuo, sem metalização!)

Superfície polimérica microestruturada

Canhão de Plasma do Tipo Arco Catódico

Formação de nanopartículasde Au em PMMA

Ângulo de contato, energia de superfÂngulo de contato, energia de superfíície de scie de sóólidos lidos e le lííquidos e tensão de interface entre lquidos e tensão de interface entre lííquidosquidos

Medição dinâmica de ângulo de contato

Gota pendente

Coordenadora do grupo: Prof.ª Maria Cecília Salvadori (e-mail: mcsalvadori@if.usp.br, tel. (11) 3091-6857, fax. (11) 3091-6625)

A principal linha de pesquisa do Laboratório de Filmes Finos consiste no estudo de micro e nanoestruturas em filmes finos. Dentro desse

tema, podemos dividir os objetivos do Laboratório em quatro tópicos: (I) Analisar o caráter nanoestruturado dos filmes depositados por

plasma; algumas das propriedades que tem sido estudadas são: (a) resistividade elétrica de filmes finos de materiais e semicondutores:

medidas e desenvolvimento de um novo modelo quântico; (b) efeito Seebeck em junções entre filmes finos com espessuras nanométricas,

onde os efeitos quânticos aparecem (Quantum Size Effects); (c) módulo Elástico de filmes finos nanoestruturados no limite de espessura e

nanoestrutura onde as dimensões dos grãos e dos intergrãos desempenham papel essencial. (II) Caracterização de superfícies em escala

nanométrica, como determinação do coeficiente de atrito, medida de potencial elétrico etc. (III) Desenvolvimento de técnicas e

instrumentação para deposição de filmes finos e fabricação de micro e nanoestruturas. (IV) Modificação de superfícies, incluindo tratamento

por plasma e micro e nanofabricação.