nbr nm iso 12218 - tecnologia grafica - controle de processo - preparacao de chapas offset

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Copyright © 2000, ABNT–Associação Brasileira de Normas Técnicas Printed in Brazil/ Impresso no Brasil Todos os direitos reservados Sede: Rio de Janeiro Av. Treze de Maio, 13 - 28º andar CEP 20003-900 - Caixa Postal 1680 Rio de Janeiro - RJ Tel.: PABX (021) 210 -3122 Fax: (021) 220-1762/220-6436 Endereço eletrônico: www.abnt.org.br ABNT-Associação Brasileira de Normas Técnicas Tecnologia gráfica - Controle de processo - Preparação de chapas offset Palavras-chave: Tecnologia gráfica. Impressão. Controle de processo 17 páginas Origem: NM-ISO 12218:1999 ABNT/ONS-27 - Organismo de Normalização Setorial de Tecnologia Gráfica NBR NM-ISO 12218 - Graphic technology - Process control - Offset platemaking Descriptors: Graphic technology. Printing. Process control Esta Norma cancela e substitui a NBR 14078:1998 Válida a partir de 31.08.2000 NBR NM-ISO 12218 JUL 2000 Sumário Prefácio nacional Prefácio regional Introdução 1 Objetivo 2 Referências normativas 3 Definições 4 Requisitos 5 Métodos de prova Anexo A (normativo) Anexo B (informativo) Anexo C (informativo) Anexo D (informativo) Anexo E (informativo) Anexo F (informativo) Prefácio nacional A ABNT - Associação Brasileira de Normas Técnicas - é o Fórum Nacional de Normalização. As Normas Brasileiras, cujo conteúdo é de responsabilidade dos Comitês Brasileiros (ABNT/CB) e dos Organismos de Normalização Setorial (ABNT/ONS), são elaboradas por Comissões de Estudo (CE), formadas por representantes dos setores envolvidos, deles fazendo parte: produtores, consumidores e neutros (universidades, laboratórios e outros). O Projeto de Norma MERCOSUL, elaborado no âmbito do CSM 18 - Comitê Setorial MERCOSUL de Tecnologia Gráfica, circulou para Consulta Pública entre os associados da ABNT e demais interessados sob o número 18:00-ISO 12218. A ABNT adotou, por solicitação do seu ABNT/ONS-27 - Organismo de Normalização Setorial de Tecnologia Gráfica, a norma MERCOSUL NM-ISO 12218:1999. Esta Norma cancela e substitui a NBR 14078:1998.

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Page 1: NBR Nm Iso 12218 - Tecnologia Grafica - Controle de Processo - Preparacao de Chapas Offset

Copyright © 2000,ABNT–Associação Brasileira deNormas TécnicasPrinted in Brazil/Impresso no BrasilTodos os direitos reservados

Sede:Rio de JaneiroAv. Treze de Maio, 13 - 28º andarCEP 20003-900 - Caixa Postal 1680Rio de Janeiro - RJTel.: PABX (021) 210 -3122Fax: (021) 220-1762/220-6436Endereço eletrônico:www.abnt.org.br

ABNT-AssociaçãoBrasileira deNormas Técnicas

Tecnologia gráfica - Controle deprocesso - Preparação de chapasoffset

Palavras-chave: Tecnologia gráfica. Impressão. Controle de processo

17 páginas

Origem: NM-ISO 12218:1999ABNT/ONS-27 - Organismo de Normalização Setorial de Tecnologia GráficaNBR NM-ISO 12218 - Graphic technology - Process control - OffsetplatemakingDescriptors: Graphic technology. Printing. Process controlEsta Norma cancela e substitui a NBR 14078:1998Válida a partir de 31.08.2000

NBR NM-ISO 12218JUL 2000

SumárioPrefácio nacionalPrefácio regionalIntrodução1 Objetivo2 Referências normativas3 Definições4 Requisitos5 Métodos de provaAnexo A (normativo)Anexo B (informativo)Anexo C (informativo)Anexo D (informativo)Anexo E (informativo)Anexo F (informativo)

Prefácio nacional

A ABNT - Associação Brasileira de Normas Técnicas - é o Fórum Nacional de Normalização. As Normas Brasileiras,cujo conteúdo é de responsabilidade dos Comitês Brasileiros (ABNT/CB) e dos Organismos de Normalização Setorial(ABNT/ONS), são elaboradas por Comissões de Estudo (CE), formadas por representantes dos setores envolvidos,deles fazendo parte: produtores, consumidores e neutros (universidades, laboratórios e outros).

O Projeto de Norma MERCOSUL, elaborado no âmbito do CSM 18 - Comitê Setorial MERCOSUL de TecnologiaGráfica, circulou para Consulta Pública entre os associados da ABNT e demais interessados sob o número18:00-ISO 12218.

A ABNT adotou, por solicitação do seu ABNT/ONS-27 - Organismo de Normalização Setorial de Tecnologia Gráfica, anorma MERCOSUL NM-ISO 12218:1999.

Esta Norma cancela e substitui a NBR 14078:1998.

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2 NBR NM-ISO 12218:2000

A correspondência entre as normas listadas na seção 2 “Referências normativas” a as Normas Brasileiras é aseguinte:

NM-ISO 12647-1:1999 NBR NM-ISO 12647-1:2000 - Tecnologia gráfica - Controle do processo de separaçãode cores, prova e impressão - Parte 1: Parâmetros de processo e métodos deensaio

Prefácio regional

O CMN - Comitê MERCOSUL de Normalização - tem por objetivo promover e adotar as ações para a harmonização ea elaboração das Normas no âmbito do Mercado Comum do Sul - MERCOSUL, e é integrado pelos OrganismosNacionais de Normalização dos países membros.

O CMN desenvolve sua atividade de normalização por meio dos CSM - Comitês Setoriais MERCOSUL - criados paracampos de ação claramente definidos.

Os Projetos de Norma MERCOSUL, elaborados no âmbito dos CSM, circulam para votação nacional por intermédio dosOrganismos Nacionais de Normalização dos países membros.

A homologação como Norma MERCOSUL por parte do Comitê MERCOSUL de Normalização requer a aprovação porconsenso de seus membros.

Introdução

Durante a produção de uma chapa de impressão em offset, um material básico é revestido com uma camada sensívelà radiação fotoquímica ativa. A chapa é considerada como pré-sensibilizada se produzida por um fabricante de cha-pas. A camada sensível à radiação pode ser tanto de ação positiva (para filmes positivos) como de ação negativa (parafilmes negativos). Algumas chapas offset podem ser usadas como chapas conversíveis junto com material negativo.

Durante a preparação da fôrma de impressão em offset, as informações analógicas são transferidas de um filme re-ticulado para uma chapa através do contato e da exposição à radiação, onde a camada da chapa é sensibilizada. Alter-nativamente, as chapas offset podem ser expostas usando projeção óptica de cópia de reflexão ou transmissão oupor técnicas diretas de reprodução. Enquanto os processos alternativos não são cobertos por esta Norma, muitos dosprincípios podem ser aplicados por analogia.

Antes da etapa de exposição, o lado da camada do filme reticulado é colocado em contato com a camada sensível dachapa, normalmente com a utilização de vácuo. A radiação usada para a etapa de exposição pode conter um com-ponente difuso e um unidirecional.

O benefício da radiação difusa é que bordas de filme, arranhões e partículas de poeira não são transferidos para achapa. Entretanto, é necessário ter cuidado porque a radiação difusa acentua falhas associadas às áreas onde filmee chapa não estão em contato ou onde o contato é baixo.

Durante a etapa de exposição, a expansão óptica da chapa e o componente difuso da radiação causam redução nalargura dos detalhes finos, então os elementos de imagem ficam algo menores que a imagem original no filme. Comchapas negativas, o mesmo fenômeno físico resulta em um pequeno aumento nos detalhes finos em relação aooriginal.

Após a etapa de exposição, mas antes da revelação, a camada sensível normalmente apresenta uma diferença de corentre as áreas expostas e não expostas.

A revelação de uma chapa offset consiste na remoção da camada sensível das áreas de contragrafismo. Essas áreassão as áreas expostas de uma chapa positiva e as áreas não expostas de uma chapa negativa.

A qualidade da preparação da fôrma depende basicamente dos seguintes parâmetros:

- condições da etapa de exposição, especialmente das condições de vácuo;

- composição química e temperatura do revelador;

- condições dos rolos e escovas;

- velocidade de processamento (tempo de revelação);

- condições de acabamento.

Depois da revelação, o contraste das cores entre as áreas de grafismo e contragrafismo é normalmente bem maior.

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NBR NM-ISO 12218:2000 3

Em seguida, pode ser feita a correção e aplicação da goma na chapa. A chapa offset torna-se então uma fôrma offsetpronta para a impressão. Durante a correção, elementos de imagem são apagados (correção negativa) ou adicionados(correção positiva).

Após a correção, costuma-se aplicar uma fina camada de goma (solução coloidal) sobre o lado da imagem da chapa,que serve para proteger e prevenir alterações durante a operação de impressão. Após a exposição, um tratamento determoendurecimento pode ser aplicado, para aumentar a durabilidade da camada da chapa ao desgaste químico emecânico.

Determinação da exposição ideal para chapas offset positivas: Existem três considerações importantes:

a) a exposição deve ser suficientemente intensa, para que as bordas do filme e partículas de poeira nãoapareçam na fôrma de impressão;

b) a exposição não deve ser tão intensa a ponto de não prejudicar a transferência dos pontos das áreas de altasluzes;

c) uma vez que a exposição também determina o valor tonal, que é muito importante no controle de processo, adiminuição do ponto de retícula do filme para a chapa deve ficar dentro de um nível especificado, independente dotipo de chapa e das condições de processamento.

Para retículas com freqüência de 70 cm-1 ou menos, é possível considerar a) e b) em uma única exposição. Aexposição usada pode ser mais intensa que aquela que resultaria na melhor resolução possível (mas onde detalhescomo poeira e bordas de filme também poderiam aparecer). A consideração c) pode ser aplicada observando-se umaleitura de microlinhas adequada.

Para retículas muito finas, com elementos de imagem menores que 25 mm, as considerações a) e b) podem não serobtidas com uma única exposição. Nesse caso, executa-se uma primeira exposição com a melhor resolução possívelou um pouco acima. Durante a segunda etapa de exposição, as áreas de grafismo são protegidas por uma máscara,e uma exposição maior remove todos os traços de poeira, bordas de filme e adesivos.

Para as chapas positivas, verificou-se que podem ser usados alvos de microlinhas para definir uma faixa deexposição que assegure uma diminuição reproduzível dos pontos de retícula na transferência do filme reticulado paraa fôrma de impressão. Nessa faixa, a diminuição do ponto do filme reticulado para a fôrma de impressão é uma funçãolinear da leitura de microlinhas; a função depende da resolução de preparação da chapa. Para uma determinadachapa, sob determinadas condições de exposição e processsamento, o gráfico da leitura de microlinhas positivas emfunção do logaritmo da exposição caracteriza a dependência do valor tonal com a exposição. A inclinação da curva éuma indicação da variação do ponto em função da variação da exposição. Assim, uma inclinação mais acentuadaindica uma latitude menor que uma inclinação menos acentuada.

Os alvos de microlinhas usados para o controle do processo de preparação da fôrma contêm um determinadonúmero de subalvos com linhas de largura graduada, variando de poucos micra a várias dezenas de micra. Diferentesdos alvos usados na prova de resolução na área fotográfica, os alvos de microlinhas apresentam relações de linha-espaço diversas de 1:1. As relações mais comuns são de 1:9, 3:5 e 1:4. Dentro da faixa de exposição normal, a leiturade microlinhas depende pouco da relação entre linha e espaço. É importante lembrar que a leitura de microlinhasdepende do nível de definição entre as microlinhas. O seu alvo não é consideravelmente mais elevado que qualqueroutra parte na tira de filme de controle. Como alternativa à divisão em subalvos com alvos com largura de linhaconstante, pode-se também empregar um único alvo de microlinhas com larguras de linha de variação constante.Como podem haver efeitos direcionais, tanto durante a preparação da chapa como no seu processamento, éinteressante tirar a média das leituras feitas em ângulos retos ou usar microlinhas circulares. É importante notar queas leituras de microlinhas relacionam-se sempre à largura das microlinhas no filme, e não à (desconhecida) largurana fôrma de impressão.

Determinação da exposição de chapas offset negativas: Existem três considerações importantes:

a) a exposição deve ser intensa o suficiente para alcançar uma tiragem suficiente e segura;

b) a exposição não pode ser tão intensa a ponto de causar um excessivo ganho de ponto na transferência do filmereticulado para a fôrma de impressão, ou causar também uma perda dos detalhes nas áreas de sombra;

c) o aumento do valor tonal do filme reticulado para a fôrma de impressão deve ter um nível especificado.

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4 NBR NM-ISO 12218:2000

Como o primeiro critério é determinante, as exposições de chapas negativas seguem, normalmente, as recomendaçõesdo fabricante, expressa através da leitura de uma escala de gris em tom-contínuo. Uma vez que a exposição idealtenha sido estabelecida, podem ser usadas tiras de controle para uma monitoração adicional da consistência dasexposições subseqüentes. Elas não podem ser usadas como determinante principal da exposição.

Alguns usuários empregam exposições menos intensas que as recomendações do fabricante, com o objetivo deobter a reprodução tonal desejada em sistemas de processamento automático com chapas que tenham camadaresistente a longas tiragens e que requerem uma revelação mais agressiva.

Em algumas chapas, a resistência a altas tiragens pode ser aumentada através de uma pós-exposição ou tratamentotermoendurecedor. Nesses casos, o fabricante pode recomendar uma exposição menos intensa, acompanhada deuma pós exposição ou de um tratamento termoendurecedor, para aumentar a vida útil da chapa. Isto resulta em um au-mento do valor tonal menor que no outro caso.

Além do emprego na definição da exposição de chapas negativas, a escala de gris em tom-contínuo também pode serusada para auxiliar no controle da revelação. Normalmente, é usada para verificar a camada da chapa; isto caracterizaa reação da camada sensível da chapa à quantidade de radiação transmitida sob determinadas condições de pro-cessamento. Uma mudança na reprodução da escala de gris indica mudanças nas condições de processamento ouna camada sensível.

1 Objetivo

Esta Norma define a terminologia unificada, os métodos de prova e os requisitos para o controle do processo depreparação de chapas offset.

Esta Norma:

- Aplica-se às chapas de metal pré-sensibilizadas;

- Aplica-se à exposição de contato, seja em prensa de cópia, máquinas copiadoras repetidoras ou processadorasautomáticas;

- Não se aplica à projeção ou a técnicas de cópia direta, apesar dos princípios poderem ser aplicados por ana-logia;

- Não se aplica a retículas estocásticas, apesar das especificações poderem ser aplicadas por analogia.

2 Referências Normativas

As seguintes Normas contêm disposições que, ao serem citadas neste texto, constituem requisitos desta NormaMERCOSUL. As edições indicadas estavam em vigência no momento desta publicação. Como toda Norma está sujeitaa revisão, se recomenda, àqueles que realizam acordos com base nesta Norma, que analisem a conveniência de usaras edições mais recentes das Normas citadas a seguir. Os organismos membros do MERCOSUL possueminformações sobre as Normas em vigência no momento.

NM-ISO 12647-1:1999 - Tecnologia Gráfica - Controle do processo de separação de cores, prova e impressão -Parte 1: Parâmetros de processo e métodos de ensaio

ISO 5-3:1995 - Photography - Density measurements. - Part 3: Spectral conditions

3 Definições

Para os efeitos desta Norma, aplicam-se as seguintes definições:

NOTA - Para fins de quantificação, a unidade preferida é sempre mencionada junto com a definição.

3.1 termoendurecimento da camada: Tratamento térmico para aumentar a durabilidade da camada sensível da chapacontra ataques químicos e desgaste mecânico.

3.2 etapa de exposição por contato: Etapa do processo onde uma chapa offset é exposta em contato íntimo com umfilme reticulado.

NOTA - Geralmente utiliza-se uma prensa de cópia com vácuo para se obter um contato íntimo.

3.3 escala de gris: Disposição linear de áreas de controle de tons contínuos cujas densidades de transmitância estãoescalonadas em incrementos de 0,15 ou 0,30.

3.4 área de controle: Área produzida para fins de controle ou medição. (ISO 12647-1).

3.5 tira de controle: Disposição unidimensional de áreas de controle (ISO 12647-1).

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NBR NM-ISO 12218:2000 5

3.6 densidade central (em um filme reticulado): Densidade de transmissão do centro de um elemento de imagemopaco, como um ponto ou linha. Unidade: 1 (ISO 12647-1).

3.7 exposição: Produto da irradiação e da duração da radiação fotoquímica ativa durante a etapa de exposição doprocesso. Unidade: J/m2.

NOTA - No lugar da radiação fotoquímica ativa pode ser usada qualquer medida de energia total depositada, uma vez que a cor-respondência seja estabelecida.

3.8 latitude de exposição: Gama de exposições que produzem resultados aceitáveis. Unidade: 1.

3.9 etapa de exposição: Etapa do processo onde uma chapa offset é exposta à radiação fotoquímica ativa com um filmereticulado.

3.10 polaridade do filme (positiva ou negativa): Positiva, se as áreas transparentes e opacas correspondem às áreasde contragrafismo e grafismo, respectivamente. Negativa, se as áreas transparentes e opacas correspondem àsáreas de grafismo, respectivamente e contragrafismo, respectivamente.

NOTA - Adaptado da ISO 12647-1.

3.11 largura do halo do ponto (de um elemento de imagem opaco): Distância média entre as linhas de contorno doponto de retícula correspondentes a 10% e 90% da densidade central mínima especificada para o processo de im-pressão considerado. Unidade: µm.

NOTA - Adaptado da ISO 12647-1.

3.12 filme reticulado: Filmes utilizados em processos de impressão reticulada, mostrando elementos de imagem comopontos ou linhas (ISO 12647-1).

3.13 leitura de microlinhas: Sob determinadas condições, transferência de microlinhas positivas ou negativas dofilme para a chapa de modo que pelo menos 50% da longitude dessas microlinhas sejam claramente visíveis nachapa offset. A leitura positiva de microlinhas refere-se às microlinhas positivas (linhas opacas sobre base transparente),enquanto a leitura negativa de microlinhas refere-se às microlinhas negativas (linhas transparentes sobre baseopaca) conforme elas aparecem na fôrma de impressão em offset. Unidade: µm.

3.14 alvo de microlinhas: Área de controle que contém finas linhas positivas e negativas com larguras diversas masacuradamente definidas, e que estão dispostas em um modo visual de fácil leitura.

3.15 chapa negativa: Chapa de impressão em offset, para uso com filmes negativos (ISO 12647-2).

3.16 fôrma de impressão em offset: Fôrma para impressão em offset onde as áreas de grafismo aceitam tinta e asáreas de contragrafismo não aceitam tinta.

NOTA - Uma chapa offset se transforma em uma fôrma de impressão em offset por meio das etapas de exposição, gravação e pós-tratamento.

3.17 chapa offset: Peça plana cuja superfície foi revestida de maneira que se possa produzir uma fôrma de impressãoem offset (ISO 12647-2).

3.18 fenômeno "falha de contato": Transferência insuficiente de elementos de imagem de um filme reticulado para umachapa offset, como resultado de um contato inadequado entre eles.

NOTA - A falha de contato pode ser causada por um objeto mecânico ou por uma bolha de ar.

3.19 preparação de chapas, preparação da fôrma de impressão em offset: Etapas do processo onde uma fôrma deimpressão em offset é preparada a partir de uma chapa offset.

3.20 gradação: Medida da sensibilidade da camada sensível da chapa offset à exposição. Unidade: 1.

3.21 resolução na preparação de chapas: Leitura da menor microlinha positiva e negativa que é obtida em uma únicaexposição. Unidade: µm.

NOTAS

1 Não confundir com “poder de resolução”, um termo usado em fotografia.

2 Às vezes referido como “boa resolução”.

3.22 chapa positiva: Chapa offset para cópia com filme reticulado positivo (ISO 12647-2).

3.23 chapa offset pré-sensibilizada: Chapa offset cuja superfície é revestida pelo fabricante com camada sensível àradiação.

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3.24 fator de refletância, R: Razão entre o fluxo refletido por uma amostra e o fluxo refletido por um material padrão comreflexão e difusão perfeitas. Unidade: 1. (ISO 5-4).

3.25 densidade de reflexão: Logaritmo em base 10 do recíproco do fator de refletância. Unidade: 1.

3.26 lineatura, freqüência de retícula: Freqüência espacial da distribuição dos elementos de imagem, tais comopontos ou linhas, por unidade de longitude, na direção em que produzem o maior valor. Unidade: cm-1.

3.27 resolução da retícula: Recíproco à lineatura. Unidade: cm. (ISO 12647-1).

3.28 máquina copiadora repetidora: Equipamento para executar etapas automatizadas de exposição de contato emuma chapa offset.

3.29 valor tonal; área de ponto (em uma impressão ou fôrma de impressão), A: Porcentagem da superfície cobertapor uma única cor (se forem ignorados a difusão de luz e outros fenômenos ópticos). Calculado por meio da fórmula:

onde:

D0 é a densidade do fator de refletância do suporte de impressão não impresso, ou as partes de contragrafismoda fôrma de impressão;

Ds é a densidade de refletância da área sólida;

Dt é a densidade do fator de refletância do reticulado.

Unidade: Porcento.

NOTAS

1 Adaptado da ISO 12647-1.

2 Também conhecido como aparente, equivalente ou área total de ponto.

3 O sinônimo “área de pontos” pode ser aplicado somente para retículas produzidas por padrões de pontos.

4 Esta definição pode ser usada para uma aproximação do valor tonal sobre certas matrizes de impressão.

5 Geralmente assume-se que o valor tonal (denominado “valor de tinta” na ISO 12640) dos dados são reproduzidos identicamente nofilme produzido por uma image setter. Os filmes finais devem reproduzir esses valores tonais.

3.30 valor tonal, área de ponto (em um filme reticulado positivo), A: Porcentagem calculada pela seguinte fórmula:

100x 10 - 110 - 1=(%)A ) - (-

) - -(

0s

0t

DD

DD

Onde:

D0 é a densidade de transmitância da base do filme;

Ds é a densidade de transmitância da área sólida;

Dt é a densidade de transmitância do reticulado.

Unidade: Porcento.

NOTAS

1 Adaptado da ISO 12647-1.

2 Também conhecido como “área de pontos” em uma impressão reticulada.

3.31 valor tonal; área de ponto (em um filme reticulado negativo), A: Porcentagem calculada pela seguinte fórmula:

[ ]

A(%))

=100 - 100 x (1 - 10

1 - 10

-( )

-( )

D - D

D - D

t 0

s 0

onde:

D0 é a densidade de transmitância da base do filme;

100x 10 - 110 - 1=(%)A ) - (-

) - -(

0s

0t

DD

DD

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NBR NM-ISO 12218:2000 7

Ds é a densidade de transmitância da área sólida;

Dt é a densidade de transmitância do reticulado.

Unidade: Porcento.

NOTAS

1 Adaptado da ISO 12647-1.

2 Também conhecido por “área de pontos” em impressão reticulada.

3.32 densidade de transmitância (óptica); densidade de transmissão: Logaritmo em base 10 do recíproco do fator detransmitância T. Unidade: 1.

3.33 fator de transmitância, T: Razão entre o fluxo luminoso transmitido através de uma abertura coberta por umaamostra e o fluxo luminoso transmitido sem a amostra. Unidade: 1.

3.34 prensa de vácuo; prensa de cópia; prensa de exposição: Equipamento a vácuo operado manualmente onde sãoexecutadas as etapas de contato e exposição.

4 Requisitos

4.1 Qualidade do filme de separação de cores

Salvo especificação, a densidade central do ponto deve estar pelo menos 2,5 acima da densidade de transmitância daárea transparente do filme (base do filme mais velatura). A densidade de transmitância nas áreas transparentes entrepontos não deve estar mais de 0,1 acima do valor correspondente de uma ampla área da base do filme. A densidadede transmitância da base do filme não pode ser maior que 0,15. As medições devem ser realizadas com um densitômetrode transmissão (UV) cujos produtos espectrais estejam conforme a densidade de impressão ISO tipo 1 definida emISO 5-3.

A largura do halo do ponto não pode ser maior que 1/40 do tamanho do ponto. O ponto de retícula não pode ser separadoem partes distintas e a qualidade do filme de separação de cores deve ser avaliada conforme o especificado em A.1.

NOTAS

1 Os requisitos à densidade da área transparente do filme baseiam-se no seguinte:

- que a diferença de densidade das áreas transparentes de todos os filmes a serem expostos sobre uma chapa offset não exceda 0,1;

- que 0,05 representa o menor valor encontrado com maior freqüência para a densidade de impressão ISO tipo 1. Para minimizar oimpacto do uso de filmes reticulados com as densidades das bases do filme acima dessa faixa, são necessários acordos entre ofornecedor de separação de cores e o usuário. Pode-se usar também os recursos de contato ou duplicação para que filmesreticulados com densidades da base do filme diferentes sejam compatibilizados.

2 Como referencial prático, pode-se dizer que quando a densidade de amplas áreas chapadas é de mais de 3,5 acima da densidadeda área transparente do filme, obtém-se normalmente uma densidade do núcleo do ponto de retícula 2,5 acima da densidade da áreatransparente do filme.

3 Se um usuário deseja usar um filtro azul para medições da densidade de transmitância, é preciso determinar, para o tipo de filme eas condições de processamento em questão, a correlação entre as densidades obtidas com o filtro azul e as obtidas com uminstrumento de densidade de impressão ISO tipo 1.

4.2 Áreas de controle

As etapas do processo de preparação de chapas devem ser monitoradas expondo-se pelo menos uma tira de controleao longo do trabalho sobre a chapa offset. A tira de controle deve conter áreas de controle reticuladas bem definidas,com indicação de valores tonais variando de ± 1%. O ponto de retícula deve ter matriz estrutural circular. A lineatura deveser constante, e deve ser selecionada entre 50 cm-1 e 70 cm-1. A densidade de núcleo não deve ser menor que 3,0 acimada densidade de transmitância da área transparente do filme (base do filme mais velatura), a largura da borda não podeser maior que 2 µm, conforme definido pelo equipamento descrito em A.2 do anexo A.

Para as chapas positivas, a ferramenta primária do controle de exposição é um alvo de microlinhas. Ele deve ser expostojunto com o trabalho, e ao mesmo tempo deve ser exposta também uma escala de gris. Para as chapas negativas, aferramenta primária do controle de exposição é uma escala de gris. Ela deve ser exposta junto com o trabalho, e aomesmo tempo, pode ser exposto também um alvo de microlinhas. A relação linha - espaço dos alvos de microlinhaspode ser selecionada entre 1:9 e 1:2, e deve ser constante por todos os alvos. A escala de gris deve ter um incrementode 0,15 ou menos.

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8 NBR NM-ISO 12218:2000

4.3 Seleção da exposição

4.3.1 Chapas positivas

O processo de preparação de chapas dever ser controlado de modo que os valores tonais das áreas de controle de 40%ou 50% na fôrma de impressão em offset, pronta para impressão mas ainda não entintada, sejam menores que osvalores correspondentes aos das áreas de controle no filme da tira de controle, conforme os valores mostrados na tabe-la 1. Os valores tonais na fôrma de impressão em offset e no filme da tira de controle devem ser determinados pelosmétodos indicados em 5.1 e 5.2, respectivamente. No lugar do método de referência descrito em 5.1, pode-se usar ummétodo secundário, desde que os resultados obtidos possam ser diretamente relacionados aos do método dereferência.

NOTA - Métodos secundários estão descritos nos anexos B e C.

Tabela 1 - Diminuição do valor tonal na passagem do filme reticulado para a fôrma de impressão

Lineatura1)

cm-1 Área de controle 40% Área de controle 50% % %

50 2,5 a 3,5 3,0 a 4,0

60 3,0 a 4,0 3,5 a 5,0

70 3,5 a 4,5 4,5 a 6,0

4.3.2 Chapas negativas

Não há requisitos. A exposição deve ser selecionada conforme as recomendações do fabricante da chapa. Comparando-se com a exposição ideal recomendada pelo fabricante, a exposição efetivamente usada não pode ser mais fraca queum campo de 0,15 de densidade, conforme mostrado por uma escala de gris. Se o fabricante recomendar uma faixade exposições para chapas que podem ser expostas, a exposição real não pode ser menor que o limite inferior da faixaem mais de um campo de densidade de 0,15.

NOTA - Com essas condições, o aumento do valor tonal na passagem do filme reticulado para a fôrma de impressão em offset ficausualmente dentro das faixas mostradas na tabela 2 (apenas para informação). Sob as condições mencionadas no penúltimoparágrafo da introdução, o ganho de ponto pode ser levemente menor.

Tabela 2 - Aumento do valor tonal do filme reticulado para a fôrma de impressão (apenas para informação)

4.4 Limites de reprodução

Os pontos de retícula com mais de 25 µm de diâmetro no filme da tira de controle devem ser transferidos para a fôrmade impressão em offset de modo uniforme e consistente. Para a mesma fôrma, também os pontos reticulados negativos(pontos transparentes) com mais de 25 µm de diâmetro no filme da tira de controle devem ser transferidos para a fôrmade impressão em offset de modo uniforme e consistente.

5 Métodos de ensaio

5.1 Valor tonal em uma fôrma de impressão em offset - Método de referência

Com o auxílio de um micrômetro padrão, calibrar para a determinação da área ou do diâmetro:

- um microanalisador de sonda de elétrons, ou

- um microscópio de varredura de elétrons, ou

- uma combinação de microscópio-analisador de imagem de videocâmera.

Diminuição do valor tonal

1) Nessa faixa, a mudança do valor tonal é proporcional à lineatura.

Aumento do ponto de retícula

1) Nessa faixa, a mudança do valor tonal é proporcional à lineatura.

Lineatura1)

cm-1 Área de controle 40% Área de controle 50% % %

50 2,5 a 3,5 3,0 a 4,0 60 3,0 a 4,0 3,5 a 5,0 70 3,5 a 4,5 4,5 a 6,0

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Determinar a área ocupada por um único ponto reticulado na chapa offset. Calcular o ponto de retícula dividindo a áreamédia coberta por um único ponto pelo quadrado da largura de retícula. Medir e tirar a média de tantos pontos deretícula quantos necessários para uma precisão de ± 0,5%.

5.2 Valor tonal de uma área de controle de retícula em uma tira de controle

Usando um densitômetro de transmissão conforme a norma ISO 5-2, determinar as densidades de transmitância domaterial de base do filme D0, a área sólida, Ds, e uma área bem definida de retícula, Dt. Calcular o ponto de retícula apartir da definição pertinente, que está em 3.30 para os filmes positivos e em 3.31 para os filmes negativos.

Para se alcançar uma precisão suficiente, a abertura de amostragem do instrumento deve ter pelo menos um diâmetrode 15 vezes a largura de retícula, e não deve ser menor que 10 vezes essa largura. Esse requisito aplica-se também,por analogia, à área das aberturas de amostragem não circulares.

/ANEXO A

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Anexo A (normativo)Determinação dos parâmetros da qualidade de pontos de retícula de um filme reticulado

A.1 Este método deve ser empregado apenas para os filmes de retícula cuja densidade de transmitância de base dofilme ISO Status T (azul) seja de 0,06 ou menos. Outros tipos de filme devem ser aprovados pelo método A.2 ou porqualquer outro método comprovadamente equivalente ao A.2. Colocar uma tira de controle com um alvo de microlinhase com o lado da emulsão do filme para cima sobre uma mesa iluminada, e cobri-la com o filme a ser avaliado, esseúltimo com o lado da emulsão do filme para baixo. Com um microscópio manual de ampliação entre 60 e 100 vezes,observar os pontos de retícula opacos isolados que são encontrados nas partes do filme de retícula, positivo ounegativo, que aparecem mais transparentes. Se as microlinhas forem claramente visíveis sob os pontos de retícula, adensidade de núcleo estará muito baixa. A largura da borda pode ser estimada, comparando-a com a largura dasmicrolinhas que está indicada no alvo de microlinhas. O filme de separação de cores deve ser iluminado por baixo porluz com ângulos de incidência oblíquos, uma condição conhecida como iluminação de fundo escuro. Com algumaexperiência, a conformidade dos pontos de retícula em relação a uma largura máxima de borda especificada poderáser predita com bastante precisão.

A.2 Este é um método quantitativo que usa um microdensitômetro de varredura. Este é um instrumento no qual, porexemplo, o estágio de iluminação de um microscópio de transmissão está equipado de modo a permitir a formaçãode uma abertura com um diâmetro ajustável de 3 µm ou menos no centro do plano do objeto. O filme pode ser movidode modo controlado tanto na direção x como na direção y do plano do objeto. Conforme o deslocamento do filme, aintensidade de luz transmitida pelo filme é medida com um fotodetector que foi calibrado segundo a densidade do fatorde transmitância. Os dados podem ser apresentados graficamente tanto sob a matriz de um perfil da densidadeatravés de um ponto de retícula, como pelo desenho de linhas de contorno que unem pontos de densidade igual (verISO 12647-1). Para os filmes de retícula com densidade de transmitância de base do filme ISO Status T (azul) acimade 0,06, a sensibilidade do fotodetector poderá ficar restrita à faixa de 280 nm ± 30 nm.

/ANEXO B

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Anexo B (informativo)Método de ensaio secundário para chapas positivas:

Valores tonais em uma fôrma de impressão em offset - microlinhas

B.1 Ensaio da etapa de exposição

Um ensaio é usado na etapa de exposição para determinar o valor de certas características, como a resolução apreparação de chapas, a exposição recomendada das microlinhas e a latitude de exposição.

Executar uma série de etapas individuais de exposição de magnitude graduada sob condições constantes (isso incluia revelação e o acabamento) sobre uma única chapa offset. A exposição mínima dever ser escolhida de modo que acamada sensível da chapa não fique totalmente revelável, e a exposição máxima deve estar acima da faixa usadaefetivamente na preparação de chapas. Recomenda-se escalar as exposições em progressão geométrica, por exemplo,com 10, 14, 20, 28, 40, 56, 80 unidades de exposição, etc., ou 10, 20, 40, 80 unidades de exposição, etc. Avaliar então afôrma de impressão em offset pronta para impressão mas ainda não entintada.

B.2 Determinação da resolução na preparação de chapas

Executar uma prova na etapa de exposição de contato conforme B.1 com um alvo de microlinhas em um filme. Deve-sese assegurar que existe contato entre o lado da emulsão do filme de retícula e a camada sensível à luz na chapa offset.Não pode haver bolhas de ar, sujeira ou partículas aderidas entre eles. Com a ajuda de um conta-fio de 5 a 30 vezes,determinar então as leituras de microlinhas positivas e negativas em um alvo de microlinhas sobre a fôrma deimpressão em offset pronta para a impressão mas ainda não entintada. A leitura de microlinhas é a mínima largura demicrolinhas positivas ou negativas no filme reticulado, que transfere pelo menos 50% da longitude das microlinhasclaramente visíveis na matriz de impressão em offset. A leitura das microlinhas positivas se refere às microlinhaspositivas (linhas opacas sobre base transparente) e a leitura das microlinhas negativas se refere às microlinhasnegativas (linhas transparentes sobre base opaca), como aparecem na fôrma de impressão em offset.

Plotar as leituras de microlinhas em função do logaritmo decimal da exposição. Caso for verificado que as leituras demicrolinhas dependem da orientação das microlinhas, tirar a média das orientações que estão em ângulo reto entresi. Desenhar duas curvas suaves que representem da melhor maneira as leituras positiva e negativa. A figura B.1 é umexemplo. A partir da plotagem, determinar a leitura de microlinhas que corresponde ao ponto de cruzamento entre asduas curvas. Essa é a resolução de preparação da chapa. Quando da indicação de um valor, é preciso citar a relaçãolinha/espaço das microlinhas.

A precisão da determinação pode ser aumentada repetindo-se a prova várias vezes, e plotando então as médias dasleituras de microlinhas positivas e negativas.

Para uma determinação aproximada, será suficiente a seleção visual da imagem da chapa, onde as leituras demicrolinhas positivas e negativas coincidem, anotando-se então a largura das microlinhas correspondentes no filmeda tira de controle.

NOTA - O eixo vertical mostra uma escala linear; o eixo horizontal mostra uma escala logarítmica.

Figura B.1 - Chapas de ação positiva: Dependência de leituras de microlinhas positivas e negativas na exposição

Exposição em unidades arbitrárias

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B.3 Leitura de microlinhas que produz a diminuição do valor tonal especificada na tabela 1

Observação das leituras de microlinhas dadas na tabela B.1 que produzem as reduções de ponto de retícula dadas natabela 1.

NOTAS

1 As faixas de leitura de microlinhas indicadas na tabela B.1 estão baseadas em numerosas medições de valores tonais de fôrma deimpressão em offset usando-se o método 5.1 com uma combinação microscópio-analisador de imagem de videocâmera.

2 A resolução de preparação da maioria das chapas positivas está abaixo de 8 µm.

Tabela B.1 - Faixas de leituras de microlinhas positivas

Resolução de fabricação da chapa até 8 > 8 a 12

Faixa de leitura de microlinhas 12 a 15 15 a 20

B.4 Determinação da latitude de exposição correspondente a determinada faixa de leitura de microlinhas

Executar uma prova de exposição conforme o descrito em B.2. Em seguida, plotar apenas a leitura de microlinhaspositivas para chapas positivas e a leitura de microlinhas negativas para chapas negativas. Desenhar uma curvasuave que represente bem os pontos no gráfico. Determinar a inclinação média m da curva na área usada para apreparação prática de chapas, e expressá-la em micras por décadas de exposição.

Determinar

L = 10a/m

onde:

L é a latitude de exposição;

a é a largura da faixa de leitura de microlinhas;

m é a inclinação média.

Exemplo:

Ver a figura B.2. Supor que a faixa recomendada para leituras de microlinhas seja de 12 µm a 15 µm como mostrado natabela B.1, assim a = 3 µm. A inclinação da curva é de 18 µm para a década de 6 a 60 unidades de exposição. Isso fazcom que L = 1,47. Se a leitura de microlinhas tiver que ficar dentro de uma margem de 3 µm, a relação entre a ex-posição máxima e a mínima não pode ultrapassar 1,47.

Caso se deseje trabalhar dentro da faixa de leitura de microlinhas, a relação entre a exposição máxima e mínima nãopode exceder o valor de L. Isso é aplicável igualmente às variações de intensidade de radiação na chapa ou àsvariações de duração da exposição.

Valores em µm

a Largura da variação da leitura de microlinham Variação do ângulo

NOTA - O eixo vertical mostra uma escala linear; o eixo horizontal mostra uma escala logarítmica.

Figura B. 2 - Chapas positivas: Exemplo para a determinação da latitude de exposição

Exposição em unidades arbitrárias

/ANEXO C

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NBR NM-ISO 12218:2000 13

Anexo C (informativo)Método secundário de ensaio: Valores tonais em uma fôrma de impressão em offset - Densitometria

Este é o método menos preciso e menos confiável. Ele só pode ser utilizado sob as seguintes condições:

- em uma fôrma de impressão que forneça um bom contraste entre as áreas de grafismo e contragrafismo dasuperfície;

- não haver variações de densidade tanto nas áreas de grafismo como nas áreas de contragrafismo da superfície;

- o densitômetro dever ser de alta precisão com três casas decimais.

Usar um densitômetro de reflexão para medir, em uma mesma fôrma, as densidades do fator de refletância da áreade contragrafismo, de uma área de controle sólida e de uma área de controle de reticulado. Para resultados confiáveis,medir imediatamente após a revelação e secagem, isto é, antes de uma intensa exposição à luz do dia. Usar o ajustede resposta espectral do densitômetro que resulte na mais elevada densidade para a área de controle da área sólida.Se a leitura do densitômetro depender da direção, tirar a média de pelo menos 10 medições, sendo que a metade dasmedições deve ser feita com o densitômetro paralelo ao lado da pinça, e metade com o densitômetro perpendicular aessa direção. Medir as densidades do fator de refletância da área de contragrafismo, de uma área de reticulado bemdefinida e de uma praticamente sólida. Calcular o valor tonal da área de controle reticulada conforme a definição em3.29.

Para se alcançar uma precisão suficiente, a abertura de amostragem do instrumento deve ter pelo menos um diâmetrode 15 vezes a largura de retícula, e não deve ser menor que dez vezes essa largura. Esse requisito aplica-se também,por analogia, à área das aberturas de amostragem não-circulares.

Os valores tonais assim medidos devem ser relacionados com os obtidos com o método primário descrito em 5.1,devendo-se então definir uma tabela de conversão. Devem ser considerados apenas os valores tonais que possamser relacionados aos obtidos com o método descrito em 5.1.

/ANEXO D

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Expor uma escala de gris sobre uma chapa com o lado da base do filme em contato com a chapa. Com um densitômetrode reflexão, medir as densidades do fator de refletância D dos campos de tonalidade contínua na fôrma de impressãoem offset pronta para a impressão mas ainda não entintada. Designar a densidade de reflexão mínima encontradacomo Dmin e a máxima como Dmáx. Plotar a quantidade:

(D - Dmin

)/Dmáx

em função da correspondente densidade de transmitância da escala de gris. A figura D.1 mostra um exemplo parauma chapa positiva. O gráfico para uma chapa negativa seria similar mas invertido. Desenhar uma curva suave querepresente os pontos dos dados. Determinar os pontos na curva com as ordenadas 0,1 e 0,9 e anotar a diferença entreas correspondentes densidades de transmitância. Dividir essa diferença por 0,15, o resultado será a gradação depreparação de chapa. Esse valor indica aproximadamente o número de campos intermediários entre o campo livremais alto e o campo coberto mais baixo, conforme o lido em uma escala de gris com incremento de 0,15.

NOTA - A gradação da confecção da fôrma pode ser visualmente estimada pelo número de campos notados em incrementos de 0,15que estão separadamente discriminados na fôrma de impressão pelo campo sem densidade ou uma leve velatura, ao campo mostrandoo sólido.

Anexo D (informativo)Método de ensaio: Gradação na preparação de chapas

Densidade de transmitância do filme

Logaritmo de exposição

Figura D.1 - Exemplo de um diagrama mostrando a determinação da gradação de preparação da fôrma, chapa positiva

/ANEXO E

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NBR NM-ISO 12218:2000 15

Anexo E (Informativo)Fatores que podem afetar a transferência do valor tonal de um filme reticulado para uma fôrma de impressão

E.1 Geral

Enquanto a configuração da camada sensível básica determina a resposta sensitométrica da chapa, muitos outrosfatores devem ser mantidos sob controle para assegurar uma transferência consistente e previsível do ponto deretícula durante a preparação de chapas offset. Para aumentar a vida útil das chapas, os fabricantes melhoraram ascamadas sensíveis das chapas, tornando a reprodução da tonalidade mais consistente e facilitando a aplicação dovácuo. Todavia, sem um controle adequado, o usuário não alcançará as especificações de desempenho dadas pelofabricante. A seguir, as condições necessárias para:

- a prensa de cópia ou da máquina copiadora-repetidora;

- a lâmpada de exposição, incluindo refletor;

- a processadora de chapa, mecânica e química.

são brevemente analisadas.

E.2 Prensa de cópia, máquina copiadora-repetidora

A eficiência na aplicação do vácuo é o fator mais importante a influenciar a transferência do ponto de retícula. Um vácuoinadequado ou ineficiente causará uma transferência inconsistente do ponto de retícula. Assim, a condição de vácuodeve ser controlada para que o tempo de aplicação do vácuo seja ideal. Geralmente, quanto maior a lineatura, maioresserão os tempos de aplicação necessários.

A eficiência do vácuo pode ser influenciada por:

- Um ou dois estágios de vácuo;

- As condições das vedações;

- O material da superfície da camada da chapa;

- As mangueiras de vácuo;

- A bomba de vácuo;

- A manta (tipo rolo, lâmina, lâmina segmentada);

- O vidro da prensa.

E.2.1 Avaliação visual da eficiência do vácuo

Colocar um filme positivo com ponto de retícula de 40% e com uma lineatura de no mínimo 70 cm-1 em contato comuma chapa offset. Durante a formação do vácuo e sob luz ambiente, observar o movimento do padrão de moiré geradopela retícula do filme e sua sombra sobre a chapa. Anotar o tempo requerido para que o padrão de moiré desapareça ea superfície fique uniforme. Esse é o tempo mínimo de aplicação para esse tipo de chapa sob condições efetivas devácuo. Se forem observadas anomalias, as condições da prensa de cópia devem ser corrigidas antes de uma novaavaliação.

E.3 Lâmpada de exposição, incluindo refletor

A lâmpada de exposição de uma prensa de cópia deve ser posicionada de modo a resultar uma iluminação uniforme ecom um satisfatório nível de radiação unidirecional. Para se obter uma formação de imagem ideal em curto tempo deexposição, deve-se usar uma fonte de radiação cuja emissão espectral coincida com a faixa de sensibilidade daemulsão.

E.3.1 Determinação da uniformidade da iluminação

Usar um medidor de luz ou raios UV com escala linear para medir a intensidade em, por exemplo, 5 pontos quecaracterizem a área da prensa de cópia que é usada para a exposição da chapa. A relação entre a maior e a menorleitura não pode exceder a latitude de exposição determinada com o método de prova indicado no anexo B. Para asmáquinas copiadoras-repetidoras, deve-se usar medidores de radiação com geometria especial. Como uma alternativabem menos precisa, a intensidade da iluminação poderá ser avaliada por meio da exposição de tiras de controlesobre uma chapa offset, avaliando-se então as microlinhas ou escalas de grises. A uniformidade da iluminação podeser melhorada pela limpeza do refletor, pela substituição da lâmpada, nivelamento e distância da fonte luminosa.

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16 NBR NM-ISO 12218:2000

E.4 Processadora de chapa

Controlar se as condições da processadora estão conforme as recomendações do fabricante. As condições de rolose escovas e a pressão dos rolos podem ter efeitos adversos sobre a transferência do ponto de retícula. Inspecionar aoperação das seções de revelação, lavagem e acabamento.

É preciso controlar com regularidade as condições dos líquidos de revelação e acabamento. Esses líquidos devemser completados ou trocados nos intervalos recomendados pelo fabricante, o mesmo valendo também para os filtros.Se houver alguma dúvida, por exemplo, na mudança do valor da gradação na preparação da chapa (anexo D), aschapas podem ser processadas manualmente e seus resultados podem ser comparados com os obtidos naprocessadora.

/ANEXO F

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NBR NM-ISO 12218:2000 17

Anexo F (informativo)Bibliografia

ISO 5-2:1991 - Photography - Density measurements - Part 2: Geometric conditions for transmission density

ISO 5-4:1995 - Photography - Density measurements - Part 4: Geometric conditions for reflection density

ISO 12640: 1997 - Graphic technology - Prepress digital data exchange - CMYK standard colour image data (CMYK/SCID)

ISO 12467-2:1966 - Graphic Technology - Process control for the manufacture of half-tone colour separations, proof andproduction prints - Part 2: Offset processes