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1
Prof Ana L F de Barros
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica CEFET-RJ
Rio de Janeiro RJ Brazil
Linhas de Pesquisa Desenvolvidas no LaFEA Aspectos Experimentais e
Aplicaccedilotildees
2
bull Fiacutesica da Sonoluminescecircncia- LaFEA- CEFET
bull Processos de Deposiccedilatildeo de Filmes Finos de Nano-Compostos - UTD FEP e CEFET
bull Espectrometria de Massa por Tempo de Vocirco ndashTOF-MS Queenacutes University UFRJ e LNLS
bull Gelos Astrofiacutesicos Ecircnfase em gelo de aacutegua ndash PUC ndashFranccedila - Caen
Linhas de Pesquisa
3
Profa Ana Lucia F de Barros
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
Fiacutesica da Sonoluminescecircncia - 2009-2010
bullLeandro Santos (5ordm Eleacutetrica) 2010- atual
Seminaacuterio PPEL 160409 4
1 O que eacute a Sonoluminescecircncia
Sonoluminescecircncia de uma uacutenica bolha (SBSL) eacute um fenocircmeno ondeenergia sonora eacute convertida em luz
O efeito de SL ocorre com uma onda de som dentro de um Liacutequido(aacutegua aacutecidos bases etc)
A bolha gasosa sonoluminescente eacute um oscilador natildeo linearconcentrando uma grande energia sonora de tal forma a emitir foacutetons
Da esquerda para a direita apariccedilatildeo da bolha expansatildeo lenta raacutepida contraccedilatildeo e emissatildeo da luz
www wikipediaorg
Seminaacuterio PPEL 160409 5
Vaacuterios ramos da fiacutesica (mecfluidos acuacutestica termodinacircmicaestabilidade dinacircmica interaccedilatildeo radiaccedilatildeomateacuteria) e quiacutemica
Eacute um dos fenocircmenos mais natildeo lineares e de maior concentraccedilatildeo deenergia que se conhece
Aplicaccedilotildees em cataacutelise de reaccedilotildees quiacutemicas
2 Motivaccedilatildeo
PUTTERMAN Seth J Sonoluminescence Sound into Light Scientific American Fevereiro 1995
Interior da bolha
T ~ 104 K
Choques plasmas ionizaccedilatildeo radiaccedilatildeo Bremsstrahlung satildeo provaacuteveis de ocorrer durante o fenocircmeno
6
3 Aparato Experimental
Um Gerador de Funccedilotildees Senoidais
Um Amplificador de Potecircncia (40W ndash 120W)
Transdutores Piezo-Eleacutetricos (PZT)
Um Ressonador (ciliacutendrico ou esfeacuterico)
Um Circuito Eleacutetrico
Uma Foto-Multiplicadora (PMT)
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
2
bull Fiacutesica da Sonoluminescecircncia- LaFEA- CEFET
bull Processos de Deposiccedilatildeo de Filmes Finos de Nano-Compostos - UTD FEP e CEFET
bull Espectrometria de Massa por Tempo de Vocirco ndashTOF-MS Queenacutes University UFRJ e LNLS
bull Gelos Astrofiacutesicos Ecircnfase em gelo de aacutegua ndash PUC ndashFranccedila - Caen
Linhas de Pesquisa
3
Profa Ana Lucia F de Barros
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
Fiacutesica da Sonoluminescecircncia - 2009-2010
bullLeandro Santos (5ordm Eleacutetrica) 2010- atual
Seminaacuterio PPEL 160409 4
1 O que eacute a Sonoluminescecircncia
Sonoluminescecircncia de uma uacutenica bolha (SBSL) eacute um fenocircmeno ondeenergia sonora eacute convertida em luz
O efeito de SL ocorre com uma onda de som dentro de um Liacutequido(aacutegua aacutecidos bases etc)
A bolha gasosa sonoluminescente eacute um oscilador natildeo linearconcentrando uma grande energia sonora de tal forma a emitir foacutetons
Da esquerda para a direita apariccedilatildeo da bolha expansatildeo lenta raacutepida contraccedilatildeo e emissatildeo da luz
www wikipediaorg
Seminaacuterio PPEL 160409 5
Vaacuterios ramos da fiacutesica (mecfluidos acuacutestica termodinacircmicaestabilidade dinacircmica interaccedilatildeo radiaccedilatildeomateacuteria) e quiacutemica
Eacute um dos fenocircmenos mais natildeo lineares e de maior concentraccedilatildeo deenergia que se conhece
Aplicaccedilotildees em cataacutelise de reaccedilotildees quiacutemicas
2 Motivaccedilatildeo
PUTTERMAN Seth J Sonoluminescence Sound into Light Scientific American Fevereiro 1995
Interior da bolha
T ~ 104 K
Choques plasmas ionizaccedilatildeo radiaccedilatildeo Bremsstrahlung satildeo provaacuteveis de ocorrer durante o fenocircmeno
6
3 Aparato Experimental
Um Gerador de Funccedilotildees Senoidais
Um Amplificador de Potecircncia (40W ndash 120W)
Transdutores Piezo-Eleacutetricos (PZT)
Um Ressonador (ciliacutendrico ou esfeacuterico)
Um Circuito Eleacutetrico
Uma Foto-Multiplicadora (PMT)
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
3
Profa Ana Lucia F de Barros
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
Fiacutesica da Sonoluminescecircncia - 2009-2010
bullLeandro Santos (5ordm Eleacutetrica) 2010- atual
Seminaacuterio PPEL 160409 4
1 O que eacute a Sonoluminescecircncia
Sonoluminescecircncia de uma uacutenica bolha (SBSL) eacute um fenocircmeno ondeenergia sonora eacute convertida em luz
O efeito de SL ocorre com uma onda de som dentro de um Liacutequido(aacutegua aacutecidos bases etc)
A bolha gasosa sonoluminescente eacute um oscilador natildeo linearconcentrando uma grande energia sonora de tal forma a emitir foacutetons
Da esquerda para a direita apariccedilatildeo da bolha expansatildeo lenta raacutepida contraccedilatildeo e emissatildeo da luz
www wikipediaorg
Seminaacuterio PPEL 160409 5
Vaacuterios ramos da fiacutesica (mecfluidos acuacutestica termodinacircmicaestabilidade dinacircmica interaccedilatildeo radiaccedilatildeomateacuteria) e quiacutemica
Eacute um dos fenocircmenos mais natildeo lineares e de maior concentraccedilatildeo deenergia que se conhece
Aplicaccedilotildees em cataacutelise de reaccedilotildees quiacutemicas
2 Motivaccedilatildeo
PUTTERMAN Seth J Sonoluminescence Sound into Light Scientific American Fevereiro 1995
Interior da bolha
T ~ 104 K
Choques plasmas ionizaccedilatildeo radiaccedilatildeo Bremsstrahlung satildeo provaacuteveis de ocorrer durante o fenocircmeno
6
3 Aparato Experimental
Um Gerador de Funccedilotildees Senoidais
Um Amplificador de Potecircncia (40W ndash 120W)
Transdutores Piezo-Eleacutetricos (PZT)
Um Ressonador (ciliacutendrico ou esfeacuterico)
Um Circuito Eleacutetrico
Uma Foto-Multiplicadora (PMT)
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
Seminaacuterio PPEL 160409 4
1 O que eacute a Sonoluminescecircncia
Sonoluminescecircncia de uma uacutenica bolha (SBSL) eacute um fenocircmeno ondeenergia sonora eacute convertida em luz
O efeito de SL ocorre com uma onda de som dentro de um Liacutequido(aacutegua aacutecidos bases etc)
A bolha gasosa sonoluminescente eacute um oscilador natildeo linearconcentrando uma grande energia sonora de tal forma a emitir foacutetons
Da esquerda para a direita apariccedilatildeo da bolha expansatildeo lenta raacutepida contraccedilatildeo e emissatildeo da luz
www wikipediaorg
Seminaacuterio PPEL 160409 5
Vaacuterios ramos da fiacutesica (mecfluidos acuacutestica termodinacircmicaestabilidade dinacircmica interaccedilatildeo radiaccedilatildeomateacuteria) e quiacutemica
Eacute um dos fenocircmenos mais natildeo lineares e de maior concentraccedilatildeo deenergia que se conhece
Aplicaccedilotildees em cataacutelise de reaccedilotildees quiacutemicas
2 Motivaccedilatildeo
PUTTERMAN Seth J Sonoluminescence Sound into Light Scientific American Fevereiro 1995
Interior da bolha
T ~ 104 K
Choques plasmas ionizaccedilatildeo radiaccedilatildeo Bremsstrahlung satildeo provaacuteveis de ocorrer durante o fenocircmeno
6
3 Aparato Experimental
Um Gerador de Funccedilotildees Senoidais
Um Amplificador de Potecircncia (40W ndash 120W)
Transdutores Piezo-Eleacutetricos (PZT)
Um Ressonador (ciliacutendrico ou esfeacuterico)
Um Circuito Eleacutetrico
Uma Foto-Multiplicadora (PMT)
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
Seminaacuterio PPEL 160409 5
Vaacuterios ramos da fiacutesica (mecfluidos acuacutestica termodinacircmicaestabilidade dinacircmica interaccedilatildeo radiaccedilatildeomateacuteria) e quiacutemica
Eacute um dos fenocircmenos mais natildeo lineares e de maior concentraccedilatildeo deenergia que se conhece
Aplicaccedilotildees em cataacutelise de reaccedilotildees quiacutemicas
2 Motivaccedilatildeo
PUTTERMAN Seth J Sonoluminescence Sound into Light Scientific American Fevereiro 1995
Interior da bolha
T ~ 104 K
Choques plasmas ionizaccedilatildeo radiaccedilatildeo Bremsstrahlung satildeo provaacuteveis de ocorrer durante o fenocircmeno
6
3 Aparato Experimental
Um Gerador de Funccedilotildees Senoidais
Um Amplificador de Potecircncia (40W ndash 120W)
Transdutores Piezo-Eleacutetricos (PZT)
Um Ressonador (ciliacutendrico ou esfeacuterico)
Um Circuito Eleacutetrico
Uma Foto-Multiplicadora (PMT)
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
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bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
6
3 Aparato Experimental
Um Gerador de Funccedilotildees Senoidais
Um Amplificador de Potecircncia (40W ndash 120W)
Transdutores Piezo-Eleacutetricos (PZT)
Um Ressonador (ciliacutendrico ou esfeacuterico)
Um Circuito Eleacutetrico
Uma Foto-Multiplicadora (PMT)
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
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OC18
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OCC13
CO
13CO
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C5O CO
2
C3O
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Ab
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rba
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C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
7
Como obter o Fenocircmeno da Sonoluminescecircncia
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
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Ab
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C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
8
Ressonador satildeo frascos dePyrex ou quartzo de 100 mL compescoccedilo pequeno
Transdutores dois discos PZTsde Ceracircmica de 19 cm dediacircmetro 03 cm de espessuraUm disco de 040 cm de diacircmetro014 cm de espessura
MicrofoneHidrofone eacute umpiezo no qual a pressatildeo acuacutesticaaplicada gera um sinal eleacutetrico
31 Os Ressonadores
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
9
34 O Sistema de Gases e Manipulaccedilatildeo de Aacutecidos
Bomba de vaacutecuo
Bastatildeo magneacutetico (misturar aacutegua + gases)Capela ppreparo dos aacutecidos
Deionizador
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
10
4 Criando e Aprisionando a Bolha
Filamento corrente de poucos ampegraveres
Desvantagem esquenta a aacutegua
Seringa Injetar ar diretamente
Desvantagem cria muito ar no sistema
Mantendo a Bolha Aprisionada
Fotomultiplicadora
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
11
5 Observando SBSL
Criaccedilatildeo da Bolha
Sistema de Ressonador Aberto
Manualmente usando uma seringa
Sinal Obtido
Microfone
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 380 mV
Foto Multiplicadora
Frequumlecircncia 2543 kHz
Sinal pico-a-pico ~ 32 mV
A L de Barros T Kodama e B Lesche ldquoObservation of Single Buble Sonoluminscence Lightrdquo
XXI Encontro Nacional de Fiacutesica da Mateacuteria Condensada (1999)
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
12
Profa Ana Lucia F de Barros
Prof Ralph Schmittgens (Technische Universitaumlt Dresden)
Prof Dr Eberhard Schultheiszlig ndash Instituto de Eletrocircnica do Estado
Soacutelido (IFE) da Universidade Teacutecnica de Dresden (TUD) e Instituto
Fraunhofer de Tecnologia de Feixe de Eleacutetrons e de Plasma (FEP)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bullLucas Vignoli (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Igor Fita (IC- 5ordm mecacircnica)
bull Rafael Ricardo (IC- 6ordm mecacircnica)
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos ndash 2009- atual
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
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nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
13
Implementaccedilatildeo Praacutetica de Processos de Deposiccedilatildeo a Vaacutecuo
Especializaccedilatildeo para engenheiros dos cursos de poacutes graduaccedilatildeo ealunos de graduaccedilatildeo com ecircnfase em eletro-teacutecnica eletrocircnica etelecomunicaccedilotildees e de Engenharia Industrial de Controle eAutomaccedilatildeo
Promover a qualificaccedilatildeo de engenheiros Perspectiva de interaccedilatildeocom a induacutestria brasileira
Criaccedilatildeo de um centro de experimentos aplicados nos processos defilmes finos
Intercacircmbio entre o CEFETRJ o Fraunhofer Institute forElectron Beam and Plasma Technology e a Universidade Teacutecnica deDresden
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
14
Motivaccedilatildeo
Conceitos de Deposiccedilatildeo de nano-compostos
Fabricaccedilatildeo de Nano-partiacuteculas por Processos de Plasma
Domiacutenio das nano-tecnologias em microeletrocircnica (portotildees dieleacutetricos
dispositivos de memoacuteria) ou energia (ceacutelulas solares materiais termoeleacutetricos)
Importante para a elaboraccedilatildeo de produtos avanccedilados como monitores planos
(OLED LCD plasma) e gravaccedilatildeo de dados (HD CD DVD)
Diodo orgacircnico emissor de luz
Etiquetas Holograacuteficas
L Armelao et alChem Mater 17 p1450 (2005)
Lynn A Peyser et alScience 291 103 (2001)
Microscopia eletrocircnica
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
15
Aplicaccedilotildees
1048707 Uso das vantagens de meacutetodos baacutesicos de vaacutecuo
para criar nano-compostos
1048707 Fabricar novos materiais e combinar materiais
1048707 Criar novas funcionalidades
1048707 Nanotecnologia Novos materiais com
melhores ou novas propriedades mecacircnica
otica eleacutetrica magneacutetica e quiacutemica
1048707 Classes de Materiais Nanocompostos
inorgacircnicos e poliacutemeros
1048707 Tecnologia Deposiccedilatildeo de filmes finos
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
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Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
so
rba
nce
C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
16
Conceitos Baacutesicos
Criar Ferramentas para
1048707 Depositar nanopartiacuteculas de
tamanhos distribuiccedilotildees e materiais
ajustaacuteveis
1048707 Depoacutesito de filmes finos em um
material matriz de interesse
tecnoloacutegico
Resistor de filme fino
Diferentes tipos de substratos semi-
condutores (1-octadeceno coberto por
Si tipo-n e Si tipo-p)
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
2C
4O
2
OC18
O
OCC13
CO
13CO
2
C5O CO
2
C3O
2
Ab
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C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
17
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
PVD- Physical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formado poratomos diretamente transportados por uma fonte do substratona fase gasosa
Evaporaccedilatildeo Evaporaccedilatildeo Teacutermica Evaporaccedilatildeo por feixe de eleacutetrons
Sputtering Sputerring DC Magnetron Sputtering DC RF Sputerring
PVD Reativo
Evaporaccedilatildeo Teacutermica de Eleacutetrons
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
Sputtering Magneacutetico
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
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2
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C5O O
3
C3O
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C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
18
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
Deposiccedilatildeo por Pulverizaccedilatildeo Catoacutedica
19
Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
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Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
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bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
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- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
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Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
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C5O O
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Wavenumber(cm-1)
L
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Depois
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Deposiccedilatildeo de Filmes Finos
CVD- Chemical Vapor Deposition ndash Um filme eacute formadopor reaccedilotildees quiacutemicas na superfiacutecie do substrato
CVD de Baixa Pressatildeo (LPCVD)
CVD de Plasma ReforccediladoPlasma Enhanced (PECVD)
CVD de Pressatildeo Atmosfeacuterica (APCVD)
CVD de Metal Orgacircnico (MOCVD) Metal-Organic Chemical Vapour Deposition
Polimerizaccedilatildeo de PlasmaPECVD
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
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e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
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- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
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C5O O
3
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CO
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13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
20
Deposiccedilatildeo Reativa Ativada por
Plasma de Alta Taxa
Evaporador
Reaccedilatildeo
Quiacutemica
Ionizaccedilatildeo
Excitaccedilatildeo
Evaporaccedilatildeo
Partiacuteculas Neutras e Natildeo-excitadas
Zona de Plasma
Partiacuteculas Ionizadas e Excitadas
Substrato
Depoacutesito de Titacircnio
sem Plasma
Depoacutesito no Plasma
de uma camada de
Titacircnio
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
C5O
2
O3
C5O O
3
C3O
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C5O CO
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C17
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L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
21
Construir Paineacuteis a Toque
Camada de ITO (Oacutexido de Iacutendio
e Estanho) no filme plaacutestico
como um eletrodo fexiacutevel e
transparente para Paineacuteis a
Toque (Electrode for Touch Panel)
Resistecircncia 500
Transmissatildeo Oacuteptica 80
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
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Gelos Astrofiacutesicos
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- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
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H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
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(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
C3
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3
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C18
O CO
2
C17
O
13CO
Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
33
Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
22
Deposiccedilatildeo de MgO ndash Princiacutepio do PDP
(plasma display panel)
Emissatildeo de Luz VIS
Painel frontal
Painel de traacutes
Descarga
gaacutes de
radiaccedilatildeo UV
Camada MgO
Camada dieleacutetrica
Fosforo
Electrodos de
endereccedilamento
Barreira ribs
Electrodos
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
e Folhas
Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
24
Meacutetodos Avanccedilados de Deposiccedilatildeo agrave Vaacutecuo
Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
25
Profa Ana Lucia F de Barros (CEFET-RJ)
Prof Enio F Frota (PUC-Rio)
Dr Philippe Boduch (GANIL-Franccedila)Dr Hermann Rothard (GANIL-Franccedila)
Centro Federal de Educaccedilatildeo Tecnoloacutegica
Celso Suckow da Fonseca
bull Xu- Yang (doutorando Caen - 2010)
bull Christian F (doutorando PUC- 2009)
Gelos Astrofiacutesicos ndash
Acelerador de Iacuteons Pesados
bull UMA VAGA PARA ESTE ANO
bullENVIEM SEUS CURRIacuteCULOS
Gelos Astrofiacutesicos
26
27
- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
N
destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
CO
CO2
YS
(If Y )
Measured
FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
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Wavenumber(cm-1)
L
Dependence of Absorbance on IR wave number 32
Depois
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Agradecimentos
CAPES COFECUB CEFET-RJ CNPq
Aguardo voces na IC
23
Aplicaccedilotildees
Optical coatings p janelas de carros
Barrier coatings P empacotamento
Scratch and Abrasion resistant coatings
Camadas transparentes condutoras para displays e
aparelhos celulares
Camada de alto indiacutece refrativo para anti-counterfeiting
on top of holograms (credit cards banknotes product
labels)
CIS Foto-voltaiacuteca
Deposiccedilatildeo em Redes Plaacutesticas
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Tecnologia
Evaporaccedilatildeo reativa ativa por plasmas
Sputtering DC Magneacutetico Duplo
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Equipamento de Deposiccedilatildeo no CEFETO HHV Auto500 sistema de deposiccedilatildeo polivalente
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- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
28
Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
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destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
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Measured
FTIR Spectra
Antes
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Wavenumber(cm-1)
L
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Acelerador de Iacuteons Pesados
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Gelos Astrofiacutesicos
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- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
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Aparato Experimental
O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
CO
H2O
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destruction yield
formation yield
YNET = Nacute ndash N = Yf ndash Yd ndash Ys (1 projectile)
CO2
Nacute
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FTIR Spectra
Antes
2000 2100 2200 2300 2400
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- O que satildeo Gelos Astrofiacutesicos
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O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
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CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
sputtering
destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
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Antes
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O que ocorre com o gelo
N (moleculescm2)
CO
H2ON0
CO2
Processo de Colisatildeo
O+6 Beam
CO
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destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
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Experimentalmente obtemos
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O+6 Beam
CO
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H2O
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FTIR Spectra
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O+6 Beam
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destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
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Experimentalmente obtemos
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O+6 Beam
CO
H2ON
CO2
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destruiccedilatildeo dissociaccedilatildeo
formaccedilatildeo
Experimentalmente obtemos
H2O
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destruction yield
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destruction yield
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FTIR Spectra
Antes
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